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顶栅阵列基板的制作方法及顶栅阵列基板.pdfVIP

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  • 2023-05-17 发布于四川
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顶栅阵列基板的制作方法及顶栅阵列基板.pdf

    本申请公开了一种顶栅阵列基板的制作方法及顶栅阵列基板。所述顶栅阵列基板的制作方法包括如下步骤：提供一衬底基板，在所述衬底基板上形成复合缓冲层；在所述复合缓冲层上形成有源层；在所述有源层上沉积第一绝缘膜层；在所述第一绝缘膜层上沉积第一金属层；对所述第一金属层上沉积光刻胶并进行图案化，得到栅极；去除所述栅极上的光刻胶，并对所述第一绝缘膜层进行干法刻蚀，得到栅绝缘层。本申请的顶栅阵列基板的制作方法可以提高阵列基板的开态电流，缩短生产节拍时间，进而提高生产效率。

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114823503 A (43)申请公布日 2022.07.29 (21)申请号 202210369352.9 (22)申请日 2022.04.08 (71)申请人 广州华星光电半导体显示技术有限

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