真空镀膜与光学镀膜对比.docxVIP

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2023-05-18 发布于天津
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真空镀膜与光学镀膜对比.docx

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真空镀膜主要利用辉光放电(glow discharge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)外表, 靶材的原子被弹出而积存在基板外表形成薄膜。溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好,但是镀膜速度却比蒸镀慢很多。型的溅镀设备几乎都使用强力磁铁将电子成螺旋状运动以加速靶材四周的氩气离子化, 造成靶与氩气离子间的撞击机率增加, 提高溅镀速率。一般金属镀膜大都承受直流溅镀,而不导电的陶磁材料则使用 RF 沟通溅镀, 根本的原理是在真空中利用辉光放电(glow discharge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)外表，电浆中的阳离子会加速冲向作为被溅镀材的负电极外表，这个冲击将使