原创力文档- 2
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- 2023-05-17 发布于四川
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本发明公开了一种基于离子束的光学薄膜元件的面形控制方法。通过离子束技术修正光学薄膜面形形变，使薄膜元件达到无残余应力双面平衡状态。具体方法为测量已制备薄膜元件面形的矢高值(Power)，根据矢高值失配量在基底背面镀制SiO2膜补偿面，再次测量补偿之后薄膜元件面形的矢高值，计算分析需要对补偿面刻蚀或再沉积SiO2膜的厚度，并进行精确的刻蚀或沉积。该方法制备的薄膜面应力与基底未镀膜面应力相平衡，使光学系统更加精确。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114815130 A
(43)申请公布日 2022.07.29
(21)申请号 202210237570.7
(22)申请日 2022.03.11
(71)申请人 中国科学院上海光学精密机械研究
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