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本发明的目的是提供尽管硼含有率降低但仍然具有高光学特性的偏振膜的制造方法及其制造装置。一种偏振膜的制造方法，其是由聚乙烯醇系树脂膜制造硼含有率为2.0～3.5重量％的偏振膜的方法，包括下述工序：将前述聚乙烯醇系树脂膜用二色性色素进行染色处理的染色工序；使前述染色工序后的前述聚乙烯醇系树脂膜浸渍于交联浴而进行交联处理的交联工序，所述交联浴包含含有硼化合物的交联剂的水溶液；对前述交联工序后的前述聚乙烯醇系树脂膜照射电磁波的电磁波照射工序，所述电磁波中的波长超过2μm且为4μm以下的红外线的辐射能量的
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114895397 A
(43)申请公布日 2022.08.12
(21)申请号 202210489268.0
(22)申请日 2017.08.16
(30)优先权数据
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