实验三十九形状记忆合金的组织形貌观察及二次电子像.pptxVIP

实验三十九形状记忆合金的组织形貌观察及二次电子像第1页/共15页第2页/共15页形状记忆合金的组织形貌观察及二次电子像 第3页/共15页〈一〉实验目的〈二〉实验内容〈三〉样品要求〈四〉实验说明及步骤 〈五〉实验报告内容及要求 〈六〉思考题第4页/共15页〈一〉实验目的1．通过此实验，了解扫描电镜对样品的要求，会分析形状记忆合金的二次电子像和X射线像。2．了解形状记忆合金的组织形貌与前期固溶处理的关系。 第5页/共15页〈二〉实验内容　形状记忆合金的组织形貌观察，二次电子像和X射线像的分析。第6页/共15页〈三〉样品要求　1．样品尺寸：高小于15mm；直径（对角线）小于30mm。2．样品表面要干净；导电。不导电的样品要进行喷金或喷碳处理。3．波谱分析的样品要制备成上下表面平行的金相试样。第7页/共15页〈四〉实验说明及步骤 形状记忆合金二次电子像的观察与分析 形状记忆合金的二次电子像： 二次电子：当样品原子的核外层电子受到入射电子的激发（非弹性散射）而获得大于临界电离激发能的能量后，便脱离开原子核的束缚成为自由电子，只有那些能量大于材料逸出功的电子才有可能逃离样品表面，这些电子称为二次电子。其能量范围在0—50ev，它主要来源于样品表面5-10nm的深度范围。用二次电子呈像，图像的分辩率高。JXA—40扫描电子显微镜的分辩率为4nm。二次电子像的衬度主要取决样品表面各部位发射出的二次