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一种高渗透率高过滤精度莫来石晶须陶瓷过滤膜及其制备方法.pdfVIP

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  • 2023-05-23 发布于四川
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一种高渗透率高过滤精度莫来石晶须陶瓷过滤膜及其制备方法.pdf

    一种高渗透率高过滤精度莫来石晶须陶瓷过滤膜及其制备方法，包括碳化硅陶瓷支撑体层和涂覆在支撑体层表面的莫来石晶须分离膜层，所述支撑体层由包括重量百分数为80～90％碳化硅及10～20％结合剂的原料、重量为原料的20～30％的造孔剂和重量为原料的2～10％的矿化剂制备而成，所述分离膜层由包括重量百分数为30～50％硅源、50～70％铝源和添加量为铝源和硅源质量之和的0.1～1％的分散剂、60～150％的溶剂、0.1～10％的催化剂制备而成，所述结合剂为重量百分比为星子高岭土62～78％和α‑Al2O

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112156656 A (43)申请公布日 2021.01.01 (21)申请号 202010954130.4 C04B 35/63 (2006.01)

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