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- 2023-05-23 发布于四川
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本发明属于光限幅材料领域，具体涉及一种具有共轭微孔结构的聚酞菁类光限幅材料及其制备方法。本发明提供的聚酞菁类光限幅材料由式(i)所示重复单元构成；相邻重复单元共享苯环，形成苯撑结构；式(i)中，M为金属原子。本发明提供的聚酞菁类光限幅材料是一种具有高度离域π电子共扼结构的有机微孔聚合物，其具有良好的热稳定性和可加工性，同时显现出很强的三阶非线性光学响应，能在相当宽泛的紫外可见光谱范围内通过激发态吸收过程限制纳秒激光脉冲的强度，表现出较强的反饱和吸收和光限幅响应效果。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112159518 A
(43)申请公布日 2021.01.01
(21)申请号 202011015968.3
(22)申请日 2020.09.24
(71)申请人 中国科学院长春光学精密机械与物
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