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- 2023-05-23 发布于四川
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本发明涉及一种掩膜版及其制作方法、巨量转移方法。该掩膜版包括：透明基板；光阻挡膜，形成于透明基板上，光阻挡膜不同位置的透光率与光刻胶目标图案相同位置处的光刻厚度呈正线性相关，光阻挡膜的材料包括金属和/或金属氧化物。本发明充分利用了光刻胶层不同位置分解厚度—掩膜版相应位置透光率之间的关系，能够在实际应用过程中快速且精准地完成光刻胶层复杂图案的光刻制作，极大地提高了生产效率。特别是在巨量转移过程中，由于该掩膜版的高效和精准，对于提高巨量转移效率具有显著的作用。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116137224 A
(43)申请公布日 2023.05.19
(21)申请号 202111363586.4 H01L 21/027 (2006.01)
(22)申请日 2021.11
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