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- 2023-05-24 发布于四川
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本发明涉及面板、晶体管和电子装置及其形成方法。面板包括：衬底；半导体层，设置在衬底上，包括氧化物半导体或低温多晶硅；层间绝缘膜，位于衬底和半导体层上；钝化层，在层间绝缘膜上；涂覆层，在钝化层上；发光层，在涂覆层上；封装层，在发光层上，封装层包括至少一个辅助封装层，辅助封装层具有包括氢的硅氮化物层、包括氢的硅氧化物层和包括氢的氮硅氧化物层，层间绝缘膜、钝化层和涂覆层中的至少一个是氢捕获层，氢捕获层包括：第一层，包括硅氮化物；第二层，具有与第一层不同的组分并接触第一层的一个表面；及第三层，其厚度大于
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 111244131 A
(43)申请公布日
2020.06.05
(21)申请号 20191
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