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本发明公开了一种单片六轴IMU的双面电极制作及圆片级真空封装方法。本发明方法所形成的整体结构包括基底层、器件层和盖帽层,在基底层上实现多层互联结构,优化走线布局,减小寄生电容,便于后续和外部电路之间的连接;器件层包括敏感结构、硅柱以及硅墙,硅柱用于连接盖帽层上的与基底层金属电极;硅墙分别与基底层和盖帽层键合形成真空封闭腔室。本发明方法将真空封装与MEMS敏感结构的加工合并,避免对裸芯片二次真空封装时可能带来的污染,同时可实现双面电极制作,为非平面运动信号的检测提供可能。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112209332 A
(43)申请公布日
2021.01.12
(21)申请号 20191
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