发光二极管外延片及其制备方法、发光二极管.pdfVIP

  • 0
  • 0
  • 约1.86万字
  • 约 12页
  • 2023-05-25 发布于四川
  • 举报

发光二极管外延片及其制备方法、发光二极管.pdf

本发明公开了一种发光二极管外延片及其制备方法、发光二极管,涉及半导体光电器件领域。其中,发光二极管外延片包括衬底,依次层叠于所述衬底上的缓冲层、非掺杂GaN层、N型GaN层、有源层、电子阻挡层和P型GaN层;所述电子阻挡层包括依次层叠于有源层上的MoOx层和WSe2层,其中,x为1.8~2.5。实施本发明,可提升发光二极管的发光效率。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116154066 A (43)申请公布日 2023.05.23 (21)申请号 202310416794.9 (22)申请日 2023.04.19 (71)申请人 江西兆驰半导体有

文档评论(0)

1亿VIP精品文档

相关文档