基板处理装置和基板处理方法.pdfVIP

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2023-05-25 发布于四川
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基板处理装置和基板处理方法.pdf

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本发明提供基板处理装置和基板处理方法。该基板处理装置抑制在设于处理容器内部的喷射器旋转时产生颗粒，具有：处理容器；喷射器，设于处理容器内部，呈沿长度方向延伸的形状，供给处理气体；保持架，固定于喷射器；风车，固定于保持架；第1驱动用气体供给部，供给使风车向一方向旋转的驱动用气体；第2驱动用气体供给部，供给使风车向与一方向相反的另一方向旋转的驱动用气体；驱动用气体控制部，控制第1驱动用气体供给部和第2驱动用气体供给部的驱动用气体的供给，利用驱动用气体控制部的控制，自第1驱动用气体供给部和第2驱动用气

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112239859 A (43)申请公布日 2021.01.19 (21)申请号 202010661852.0 (22)申请日 2020.07.10 (30)优先权数据