阵列基板及其制备方法.pdfVIP

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2023-05-25 发布于四川
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阵列基板及其制备方法.pdf

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本申请提供一种阵列基板及其制备方法，阵列基板包括基板、有源层、栅极绝缘层、栅极层、层间介质层以及感光层，有源层设置于基板上，有源层包括半导体部和第一掺杂部，第一掺杂部设置于半导体部的两侧，栅极绝缘层覆盖基板以及有源层，栅极层设置于栅极绝缘层上，栅极层位于半导体部之上，层间介质层覆盖栅极绝缘层以及栅极层，层间介质层包括第一通孔，第一通孔贯穿栅极绝缘层以及层间介质层以暴露第一掺杂部，感光层设置于第一通孔以及层间介质层上。通过将感光层设置在有源层的第一掺杂部上，降低了生产成本，并提高了阵列基板的良率。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112242407 A (43)申请公布日 2021.01.19 (21)申请号 202011097651.9 (22)申请日 2020.10.14 (71)申请人武汉华星光电技术有限公司