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一种测距装置(100)的扫描视场的控制方法(S1500)及测距装置(100),方法(S1500)包括:发射光脉冲序列(S1510);通过至少三个光学元件(214,215)将光脉冲序列依次改变至不同的传播方向出射(S1520);通过控制至少三个光学元件(214,215)的转动速度以控制扫描视场的扫描图案、位置、扫描密度中的至少一种;和/或,通过控制所述至少三个光学元件(214,215)的初始相位控制扫描视场的延伸方向(S1530)。根据该方法(S1500)及装置(100),通过控制多个光学元件(2
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112313531 A
(43)申请公布日 2021.02.02
(21)申请号 201980009041.8 (74)专利代理机构 北京市磐华律师事务所
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