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本发明公开了一种高分子薄膜构象转变温度检测方法及系统。该方法包括:测量温控样品池的太赫兹时域光谱信号;在温控样品池的升温范围内按照第一预设间隔选取温度点测量薄膜样品的第一太赫兹时域光谱信号;根据温控样品池的太赫兹时域光谱信号以及第一太赫兹时域光谱信号,确定薄膜样品的转折温度;在转折温度的预设温度范围内按照第二预设间隔选取温度点测量薄膜样品的第二太赫兹时域光谱信号;根据温控样品池的太赫兹时域光谱信号以及第二太赫兹时域光谱信号确定薄膜样品的构象转变温度。本发明利用太赫兹时域光谱技术对高分子薄膜构象转
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112326590 A
(43)申请公布日 2021.02.05
(21)申请号 202010884967.6
(22)申请日 2020.08.28
(71)申请人 东莞理工学院
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