1. 您所在位置：
  2. 网站首页
  3. 文档分类
  4. 行业资料
  5. 国内专利

硅片表面绒面结构的制备方法.pdfVIP

  • 18
  • 0
  • 约8.71千字
  • 约 7页
  • 2023-05-28 发布于四川
  • 举报

硅片表面绒面结构的制备方法.pdf

    本发明提供了一种硅片表面绒面结构的制备方法，包括：提供硅片，对所述硅片的表面进行无掩膜刻蚀和/或无掩膜离子注入的前处理，使所述硅片的表面变粗糙；将变粗糙的所述硅片表面进行碱制绒，以在变粗糙的所述硅片表面形成金字塔绒面结构。通过对硅片进行前处理，使硅片表面变得粗糙，利于后续碱制绒工序，以在变粗糙的所述硅片表面形成更多的金字塔绒面结构；通过碱制绒，碱法刻蚀的各向异性刻蚀，最终在变粗糙的所述硅片的表面形成金字塔绒面结构。本发明的方法不需要掩膜，简化工艺，形成均匀的绒面结构，制备的“金字塔”结构数量多，

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112349812 A (43)申请公布日 2021.02.09 (21)申请号 202011166572.9 (22)申请日 2020.10.27 (71)申请人 武汉新芯集成电路制造有限公司

    您可能关注的文档

    最近下载

    文档评论（0）

    1亿VIP精品文档

    更多 >

    相关文档

    更多 >