- 0
- 0
- 约7.61千字
- 约 8页
- 2023-05-28 发布于四川
- 举报
本发明实施例公开了一种修整边缘抛光垫的系统及方法;该方法可以包括:将未被使用的新抛光垫安装在抛光垫底板;在针对待抛光晶圆执行圆边抛光工艺单元之前,将所述新抛光垫与待抛光晶圆具有相同形状以及相同尺寸规格的修整器相接触;通过所述新抛光垫与所述修整器之间的相对运动,以修整所述新抛光垫表面的形貌。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112372508 A
(43)申请公布日 2021.02.19
(21)申请号 202011238390.8
(22)申请日 2020.11.09
(71)申请人 西安奕斯伟硅片技术有限公司
原创力文档

文档评论(0)