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光刻装置和冷却装置.pdfVIP

光刻装置和冷却装置.pdf

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    光刻装置包括：投影系统，被配置为经由投影路径将图案化的辐射束投影到保持在衬底台上的衬底处的曝光区上，该衬底台在投影系统下方的区域中是可移动的；以及冷却装置，被配置为经由从衬底到冷却元件的热传递来冷却衬底，冷却元件位于衬底上方并且与投影路径相邻；其中冷却装置包括位于投影路径中的隔膜系统，以将投影系统与该区域物理地分离。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112384863 A (43)申请公布日 2021.02.19 (21)申请号 201980045146.9 (74)专利代理机构 北京市金杜律师事务所

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