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一种抑晶干粒、晶花定位全抛结晶釉艺术岩板及制备方法.pdfVIP

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  • 2023-05-30 发布于四川
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一种抑晶干粒、晶花定位全抛结晶釉艺术岩板及制备方法.pdf

    本发明涉及一种抑晶干粒、晶花定位全抛结晶釉艺术岩板及制备方法。所述抑晶干粒的化学组成包括：以质量百分比计，Na2O：5.0‑8.0％；SiO2：55‑65％；Al2O3：10‑20％；CaO：2.0‑8.0％；MgO：0.1‑2.0％；ZnO：2‑3％；B2O3：0.2‑0.5％；PbO：0.2‑0.5％。

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 115806445 A (43)申请公布日 2023.03.17 (21)申请号 202211445564.7 B28B 11/04 (2006.01)

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