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一种光学临近修正方法及装置、电子设备.pdfVIP

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  • 2023-05-30 发布于四川
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一种光学临近修正方法及装置、电子设备.pdf

    本发明公开了一种光学临近修正方法及装置、电子设备。本发明提供的光学临近修正方法通过在生成光学临近修正目标图案时使用基于图案线宽和密度的化学机械研磨偏差规则表，充分考虑并补偿了蚀刻后到化学机械研磨后关键尺寸的偏差；进一步通过在掩膜板图案生成后的热点检测和验证步骤中，增加了化学机械研磨模型、并通过计算出蚀刻后到化学机械研磨后关键尺寸的偏差，从而基于蚀刻后仿真图案轮廓得到化学机械研磨后仿真图案轮廓，并基于所得到的化学机械研磨后仿真图案轮廓进行相关的热点预测和验证，检测化学机械研磨工艺相关的热点和缺陷，

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 115661228 A (43)申请公布日 2023.01.31 (21)申请号 202211576048.8 (22)申请日 2022.12.09 (71)申请人 华芯程（杭州）科技有限公司 地址

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