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本发明公开了一种离子束溅射镀膜设备，包括预真空腔室、溅射腔室、基片台、溅射离子源、清洗离子源和溅射靶台，预真空腔室与溅射腔室对接且二者之间设置一控制通断的隔离阀，基片台位于溅射腔室内并可从溅射腔室移动至预真空腔室内，清洗离子源设于溅射腔室内并与基片台相对布置，溅射靶台可旋转的设于溅射腔室内，溅射离子源可旋转的设于溅射腔室内，溅射离子源朝向溅射靶台，溅射靶台朝向基片台。本发明具有优化溅射工艺膜层均匀性以及沉膜速率、防止溅射离子束超出溅射靶材范围导致所沉积膜层引入杂质、利于缩小溅射靶材尺寸，提高溅射
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112481595 A
(43)申请公布日 2021.03.12
(21)申请号 202011315012.5
(22)申请日 2020.11.20
(71)申请人 中国
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