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本发明公开了一种AlGaN/h‑BN多量子阱结构的深紫外LED,自下而上依次包括:衬底、AlN模板层、n型AlxGa1‑xN层、AlyGa1‑yN/h‑BN多量子阱层、p型AlzGa1‑zN层、p型GaN接触层。AlyGa1‑yN/h‑BN多量子阱层包括:AlyGa1‑yN量子阱层和h‑BN量子垒层;其中,AlyGa1‑yN量子阱层中Al组分y的范围为0.5≤y≤0.7,厚度为2‑4nm;h‑BN量子垒层的厚度为5‑10nm。本公开能够改善深紫外LED空穴注入困难、电子泄漏、失配应力的问题,从而
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112490335 B
(45)授权公告日 2022.06.24
(21)申请号 202011414698.3 H01L 33/32 (2010.01)
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