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本发明公开了一种新型刻写窄线宽短腔长光纤光栅标准具的方法，应用包括紫外激光器，反射镜和相位掩膜板的光刻系统，有以下几个步骤：紫外激光器发出的紫外激光经由反射镜反射，打在相位掩模板上；在均匀的相位掩模板前方贴近放置小铁丝或铜丝，把相位掩模板的曝光区域平均分成两部分；对放置在掩模板后面的光纤进行折射率均匀调制，保证其他没有铁丝或铜丝的曝光区域长度一致，从而在光纤上形成两个参数一致的有一定间隔的光纤光栅，这就是光纤光栅标准具。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112526667 A
(43)申请公布日
2021.03.19
(21)申请号 20191
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