涂敷处理方法、涂敷处理装置和存储介质.pdfVIP

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2023-05-31 发布于四川
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涂敷处理方法、涂敷处理装置和存储介质.pdf

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本发明提供涂敷处理方法、涂敷处理装置和存储介质。涂敷处理方法包括：一边对基片的正面的中心供给成膜液，一边使基片以第一转速旋转，在被供给到基片的正面的成膜液到达基片的外周之前停止供给成膜液的步骤；在停止供给成膜液之后，使基片以第二转速继续旋转的步骤；和在供给期间将气液混合的冷却流体供给到基片的背面的外周部分的步骤，该供给期间包含停止供给成膜液之后直至基片的第二转速的旋转完成为止的期间的至少一部分。本发明对形成在基片的覆膜的膜厚的面内均匀性提高是有效的。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112506006 A (43)申请公布日 2021.03.16 (21)申请号 202010914757.7 (22)申请日 2020.09.03 (30)优先权数据 2019-1674

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