一种金属栅器件的制备方法.pdfVIP

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2023-06-01 发布于四川
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一种金属栅器件的制备方法.pdf

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本发明提供一种金属栅器件的制备方法，通过第一开口的侧壁暴露出第二区的第一栅介质层的侧壁、第二区的第一阻挡层的侧壁以及第二区的第一伪栅层的侧壁；在所述第一开口的底部形成第二栅介质层；在所述第二栅介质层上形成覆盖所述第一开口侧壁的第二阻挡层；在所述第一开口内形成第一栅极结构；去除所述第二区的第一伪栅层形成第二开口，所述第二开口的侧壁暴露出位于所述第一开口侧壁的第二阻挡层；在所述第二开口内形成第二栅极结构。本发明通过在所述第一开口的底部形成第二栅介质层，所述第二栅介质层修复了在形成第一开口的过程中第一

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112563130 A (43)申请公布日 2021.03.26 (21)申请号 202011461040.8 (22)申请日 2020.12.11 (71)申请人上海微阱电子科技有限公司