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本发明公开了暴露高指数{114}面的氧化钛多面体纳/微米光催化剂的制备方法。本发明的制备方法主要包括氧化钛多面体母晶的合成和对氧化钛多面体母晶的刻蚀，最终制备了暴露高指数{114}面的规则多面体TiO2。本发明将“自上而下”和“自下而上”两种策略相结合，用于调控氧化钛的形貌。基于这两种策略中热力学有利的方向控制晶体生长，得到了暴露{114}面的锐钛矿氧化钛晶体，得到的晶体形貌均一。{114}面的暴露比例可调，由于其独特的表面结构，{114}面显示了优异的光催化性能和光电化学性能。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112573567 B
(45)授权公告日 2022.05.17
(21)申请号 202011468135.2 B82Y 40/00 (2011.01)
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