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本发明提供一种单片式湿法清洗装置及其清洗方法,该清洗装置包括:腔室、旋转平台、两个以上喷嘴、气化装置、抽真空装置、管路;腔室用于容置旋转平台,旋转平台用于承载晶圆且带动晶圆旋转,其中一个喷嘴用于向晶圆喷淋去离子水气体;气化装置设置于腔室外部并通过管路与喷嘴连接,用于将通入其内的去离子水气化为去离子水气体;抽真空装置用于对腔室抽真空。该清洗装置利用真空蒸镀法的原理,可使晶圆表面及深孔侧壁、底壁形成一层均匀的薄水膜,该薄水膜可改变晶圆表面的疏水性,可将喷淋至晶圆表面的药液快速且最大量的送入深孔的底部
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112582305 A
(43)申请公布日 2021.03.30
(21)申请号 202011412570.3
(22)申请日 2020.12.04
(71)申请人 联合微电子中心有限责任公司
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