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提供了等离子体处理设备和相关方法。在一个示例中，等离子体处理设备可以包括被配置为能够保持等离子体的等离子体腔室。该等离子体处理设备可以包括形成该等离子体腔室的壁的至少一部分的介电窗。该等离子体处理设备可以包括位于该介电窗附近的感应耦合元件。该感应耦合元件可以被配置为当用射频(RF)能量供能时在该等离子体腔室中由该工艺气体产生等离子体。该等离子体处理设备可以包括具有被配置为支撑工件的工件支撑件的处理腔室。该等离子体处理设备可以包括位于该感应耦合元件与该介电窗之间的静电屏蔽体。该静电屏蔽体可以经由可
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112640027 B
(45)授权公告日 2022.03.11
(21)申请号 202080004301.5 司
(22)申请日 2020.07.16
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