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一种改善光刻显影T型缺陷的方法.pdfVIP

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  • 2023-06-03 发布于四川
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一种改善光刻显影T型缺陷的方法.pdf

    本发明提供一种改善光刻显影T型缺陷的方法，线性扫描喷头在曝光后的晶圆边缘外进行显影液预喷涂；使线性扫描喷头从晶圆一侧边缘喷洒显影液并在晶圆上进行垂直于喷嘴长度方向的线性扫描，将显影液覆盖至晶圆表面形成均匀的显影水膜；使线性扫描喷头在晶圆另一侧边缘外进行气泡排放和回吸；使线性扫描喷头在晶圆另一侧边缘外进行数次抖动以去除线性扫描喷头上的微液滴；使线性扫描喷头移动回初始位置；静置等待晶圆上的显影水膜与曝光后的光刻胶化学反应完毕；用去离子水清洗所述线性扫描喷头；在晶圆中心喷淋去离子水并使得晶圆高速旋转，

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112650032 A (43)申请公布日 2021.04.13 (21)申请号 202011563302.1 (22)申请日 2020.12.25 (71)申请人 上海华力微电子有限公司

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