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掩模结构与掩模制程方法.pdfVIP

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  • 2023-06-03 发布于四川
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掩模结构与掩模制程方法.pdf

    一种掩模结构，包括：一极紫外光掩模；一薄膜组件，附接于该极紫外光掩模，其中该薄膜组件包括：一薄膜框架；多个薄膜层，附接于该薄膜框架，其中该些薄膜层包括：至少一层核心薄膜层；以及一额外薄膜层，位于该至少一层核心薄膜层之上，且为该些薄膜层的最接近相邻该极紫外光掩模的一层，其中该额外薄膜层为碳化硅。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 108227414 A (43)申请公布日 2018.06.29 (21)申请号 20171

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