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在电子设备表面制备导电膜的方法、导电膜及电子设备.pdfVIP

在电子设备表面制备导电膜的方法、导电膜及电子设备.pdf

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    本发明公开了一种在电子设备表面制备导电膜的方法、导电膜及电子设备，其属于防静电技术领域，在电子设备表面制备导电膜的方法包括先对电子设备进行清洁处理，然后将清洁处理后的电子设备放置于磁控溅射设备的镀膜腔室内，之后通过机械泵对镀膜腔室抽真空，直至镀膜腔室内的压强达到0.1Pa，随后通过分子泵对镀膜腔室抽真空，直至镀膜腔室内的压强达到0.005Pa，并控制镀膜腔室内的温度为50‑60℃，最后通过磁控溅射设备将ITO薄膜、AZO薄膜等沉积在镀膜腔室内的电子设备表面，得到导电膜，导电膜的表面电阻控制在10

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112680704 A (43)申请公布日 2021.04.20 (21)申请号 202011356059.6 C23C 14/56 (2006.01)

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