一种高吸收高发射率超黑分子吸附涂层的制备方法.pdfVIP

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2023-06-04 发布于四川
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一种高吸收高发射率超黑分子吸附涂层的制备方法.pdf

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本发明公开了一种高吸收高发射率超黑分子吸附涂层的制备方法，属于超黑材料技术领域。本发明解决现有以沸石分子筛为功能材料的分子污染吸附器存在重量、尺寸大及安装位置不灵活、吸收面积不够广的问题。本发明以大比表面积的炭黑和沸石粉为核，利用原子层沉积技术制备的超薄氧化物膜层为壳的功能粉体作为填料，将其与低挥发的树脂材料混合，涂覆固化后得到分子吸附涂层。该涂层的平均太阳吸收率为95％，半球发射率为91％，使表面层具有消除杂光的性能，且该涂层对邻苯二甲酸脂、有机硅氧烷、正丁烯等有机气体(VOCs)的吸附量≥1

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 112675822 B (45)授权公告日 2021.07.20 (21)申请号 202011357112.4 B01J 20/30 (2006.01)

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