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一种具有Mo-Si-Ti合金层的γ-TiAl材料及其制备方法.pdfVIP

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  • 2023-06-04 发布于四川
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一种具有Mo-Si-Ti合金层的γ-TiAl材料及其制备方法.pdf

    本发明公开了一种具有Mo‑Si‑Ti合金层的γ‑TiAl材料及其制备方法。本发明所述的材料包括γ‑TiAl以及在γ‑TiAl表面制备的Mo‑Si‑Ti合金层，通过在γ‑TiAl表面依次进行第一次Si离子、电子束重熔处理、第二次Si离子注入以及双层辉光等离子方法制备Mo‑Si‑Ti合金层；所述Mo‑Si‑Ti合金层厚度为18‑25μm，所述Mo‑Si‑Ti合金层包括2‑4μm的Ti‑Al‑Si‑Mo扩散层以及16‑21μm的Mo‑Si‑Ti沉积层。本发明利用离子注入方法在γ‑TiAl表面注入Si离

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 112695288 B (45)授权公告日 2021.09.17 (21)申请号 202011472711.0 C23C 14/58 (2006.01)

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