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- 2023-06-05 发布于四川
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提供一种在衬底(101)上图案化铂的方法。铂层(103)沉积在衬底上，并且经图案化的光致抗蚀剂层(105)形成在铂层上方，留下铂层的部分暴露区域。铝层(109)沉积在铂层(103)的部分暴露区域上方。合金(111)由来自部分暴露区域的铝和铂形成。铂铝合金(111)被蚀刻掉，留下铂层(103)的剩余部分，以在衬底(101)上形成经图案化的铂层。优选地，在形成经图案化的光致抗蚀剂层(105)之前，在半导体衬底(101)上的铂层(103)上沉积薄硬掩模层(107)。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112753093 A
(43)申请公布日 2021.05.04
(21)申请号 201980063516.1 (74)专利代理机构 北京纪凯知识产权代理有限
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