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- 2023-06-05 发布于四川
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本发明提供一种非破坏性光学检测系统，用以检测集成电路沉积的多个膜层的厚度，其包括一检测单元以及一转换单元，检测单元包括对应待测的集成电路而设的光学传感器，光学传感器能够发出包括两种以上不同波长范围的光源，以发出对应于膜层的材质能够穿透的一检测光波，检测光波遇到集成电路所测的膜层的界面时产生一反射光波，反射光波经光学干涉而被光学传感器接收以产生一光谱信号。转换单元电性连接于检测单元，转换单元接收光谱信号并通过光谱分析以获得一波形强度，并以波形强度计算出所测的膜层的厚度。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112747681 A
(43)申请公布日
2021.05.04
(21)申请号 20191
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