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- 2023-06-05 发布于四川
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本发明公开了一种三状态分子束外延用束源炉快门，在具备束流开启与束流关断两种状态的基础上，新增第三种束源炉保护状态，处于束源炉保护状态的快门可以有效阻挡冷屏内壁上吸附的材料碎片掉落入束源炉中，具有可以保护束源炉内源料不受材料碎片污染、优化外延薄膜质量、同时有效提升蒸发束流的稳定性和重复性、降低设备维护时间、提高设备生产效率等优点。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112746318 B
(45)授权公告日 2022.02.18
(21)申请号 202011453051.1 (74)专利代理机构 湖南兆弘专利事务所(普通
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