垫调节器及化学机械抛光方法.pdfVIP

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  • 2023-06-05 发布于四川
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一种用于调节抛光垫的抛光表面的垫调节器包括调节盘、盘固持器及盘臂。调节盘包括衬底板及至少两个研磨段。调节盘包括至少一个通道,碎屑及废浆料可通过所述至少一个通道排出。研磨段位于衬底板的表面上,且在其间形成至少一个通道段。每一通道段从所述表面的中心周围实质上延伸到衬底板的外边沿。调节盘所安装到的盘固持器包括贯通孔。调节盘所安装到的盘臂包括通过贯通孔与所述至少一个通道段流体连通的开口,以用于通过真空模块排出碎屑及废浆料。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112743449 A (43)申请公布日 2021.05.04 (21)申请号 202011178462.4 B24B 37/005 (2012.01)

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