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光刻方法.pdfVIP

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  • 2023-06-06 发布于四川
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光刻方法.pdf

    一种预测在光刻设备中将在表膜的运动期间发生的表膜的偏转的方法，该方法包括：接收与表膜的性质有关的参数，以及接收与表膜的预期运动有关的参数。将该参数应用于预测根据这些参数而变化的表膜的偏转的模型。该模型包括涉及表膜的偏转的不同分量的多个子模型。该模型的输出可以用于预测和减少与表膜的预期偏转相关联的光刻误差。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112805627 A (43)申请公布日 2021.05.14 (21)申请号 201980066154.1 L ·J ·A ·凡鲍克霍文　 (22)申请日 2

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