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- 2023-06-06 发布于四川
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本发明公开一种用于硅片消除氧施主热处理过程的冷却装置和方法。该冷却装置具备:冷液冷却系统,包括由数根冷水管组成的冷水管排、用于固定该冷水管排的固定装置、以及通过波纹管连接冷水管排的进水管和出水管;所述固定装置包括用于固定冷水管排不同部位的固定梁,在固定梁上装载有风速表及温湿度传感器;在进水管和出水管上分别安装有压力表、温度计,在波纹管上安装有流量计和阀门;通风系统,包括数个轴流风机以及用于机械固定轴流风机的紧固装置,轴流风机设置在冷水管排的一侧,并朝向冷水管排鼓风;控制系统,用于对冷却环境进行智
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112746330 A
(43)申请公布日 2021.05.04
(21)申请号 202011596433.X
(22)申请日 2020.12.29
(71)申请人 有研
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