无需退火的高均一性晶体生长方法及设备.pdfVIP

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  • 2023-06-06 发布于四川
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无需退火的高均一性晶体生长方法及设备.pdf

一种晶体生长方法,对生长氧化物晶体各反应物料进行第一预处理后进行称重;对晶体生长装置的至少一个部件进行装配前处理后,将执行过第二预处理的反应物料置于所述晶体生长装置内,所述晶体生长装置的至少一个部件包括埚(214);所述装配前处理至少包括对所述埚(214)的涂层保护、酸液泡洗、异物清洁中的一种或多种;晶体生长装置密闭后内部通入流动气体;在晶体生长过程中实时向所述晶体生长装置内加入反应物料补充料。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112771213 A (43)申请公布日 2021.05.07 (21)申请号 202080004460.5 C30B 29/22 (2006.01) (22)申请日 2

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