原创力文档- 7
- 0
- 约2.29千字
- 约 4页
- 2023-06-06 发布于四川
- 举报
提高机床精度到1纳米级或更高级的方案可用于高级芯片生产替代光刻机。将螺丝头镶嵌在一个圆盘A中心，螺母位置不变，圆盘A旋转一周，螺丝杆A就会向前伸出（此处只讲向前）1毫米，（伸出长短与螺丝扣大小成正比，此处假设为1毫米）圆盘A外周长如果是1米，那么圆盘A外周长旋转1毫米，螺丝杆A就会向前伸出1微米，圆盘外周长如果是1000米，那么圆盘A旋转1毫米，螺丝杆A就会向前伸出1纳米，（螺丝杆向前伸出或向后缩回1纳米，取决于圆盘旋转的方向）利用这个原理机床就可以实现1纳米精度雕刻。此方法可用于芯片制作替代光
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112764328 A
(43)申请公布日 2021.05.07
(21)申请号 202110186396.3
(22)申请日 2021.02.11
(71)申请人 王之群
地址 125
文档评论（0）