氧化镁溅射靶.pdfVIP

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  • 2023-06-06 发布于四川
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一种溅射靶,所述溅射靶包含氧化镁烧结体,其特征在于,所述氧化镁烧结体中的在一个晶粒内存在的针孔的数量为20个以上的晶粒的比例为50%以下。本发明的课题在于提供一种包含氧化镁烧结体并且在溅射时粉粒的产生少的溅射靶。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112805403 A (43)申请公布日 2021.05.14 (21)申请号 201980066087.3 (74)专利代理机构 中原信达知识产权代理有限

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