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一种旋转蒸镀与磁控溅射复合型制靶装置.pdfVIP

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  • 2023-06-07 发布于四川
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一种旋转蒸镀与磁控溅射复合型制靶装置.pdf

    本发明涉及一种旋转蒸镀与磁控溅射复合型制靶装置，所述装置包括真空靶室、旋转靶盘、磁控溅射源、蒸镀坩埚以及蒸镀电极，在真空靶室中，蒸镀坩埚与旋转靶盘间隔一定距离，蒸镀坩埚设置于蒸镀电极之间，蒸镀电极与真空靶室绝缘密封，穿过真空靶室与真空靶室外的蒸镀电源相连，磁控溅射源设置于旋转靶盘另一侧，磁控溅射源与真空靶室绝缘密封，穿过真空靶室与真空靶室外的溅射电源相连，真空靶室预留氩气充气孔以向真空靶室充入高纯氩气进行保护，在真空靶室盖板上设置手套箱，以在制靶完成后在氩气氛围中对反应靶进行封装。采用本发明中公

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 115725939 A (43)申请公布日 2023.03.03 (21)申请号 202211383530.X (22)申请日 2022.11.07 (71)申请人 中国原子能科学研究院 地址 102

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