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本公开为了透过率提高的显示装置而提供显示装置的制造方法，包括：准备包括像素区域和透过区域的基板的步骤；在所述像素区域和所述透过区域上形成多个绝缘层的步骤；在所述像素区域的所述多个绝缘层上形成像素电极以及在所述像素电极上形成使所述像素电极的至少一部分暴露的像素定义膜的步骤；在所述像素区域的所述像素定义膜、通过所述像素区域的所述像素定义膜至少一部分暴露的所述像素电极以及所述透过区域的所述多个绝缘层上形成金属层的步骤；去除形成在所述透过区域的所述多个绝缘层上的所述金属层的步骤；以及去除所述透过区域的所
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112825324 A
(43)申请公布日 2021.05.21
(21)申请号 202010837922.3
(22)申请日 2020.08.19
(30)优先权数据
10-2019-0
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