一种以坩埚为蒸发源的植珠膜真空蒸镀设备及镀膜工艺.pdfVIP

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  • 2023-06-08 发布于四川
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一种以坩埚为蒸发源的植珠膜真空蒸镀设备及镀膜工艺.pdf

本发明涉及植珠膜真空蒸镀技术领域,具体涉及一种以坩埚为蒸发源的植珠膜真空蒸镀设备及镀膜工艺;包括真空仓真空仓中设置有放卷辊、收卷辊、若干导向辊,放卷辊上设置有植珠膜,真空仓的内腔下端设置有蒸镀室,主鼓的下端鼓面伸入蒸镀室中,位于主鼓正下方的蒸镀室中有坩埚蒸发装置,坩埚蒸发装置包括容置槽,容置槽中设置有若干排坩埚,每排坩埚呈平行设置且每排坩埚与植株膜的牵引方向相垂直,每排坩埚与相邻一排的坩埚之间交错设置,坩埚的外围套设有螺旋式感应加热线圈;本发明能够保证镀在植株膜面上的镀层厚度更加均匀,有效解决了

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112877670 A (43)申请公布日 2021.06.01 (21)申请号 202110165012.X (22)申请日 2021.02.06 (71)申请人 合肥市辉耀真空材料有限责任公司

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