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本发明公开一种麻醉科术后消毒清洗系统,包括底板和箱体,所述箱体为顶端开口的空腔结构,所述箱体内设有清洗室,且所述箱体的顶端两侧设有对称设置的侧板一和侧板二;所述框架(7)的底端环绕设有若干均与分布的限位柱(42),所述限位柱(42)的底端均设有缓冲块;所述缓冲块为橡胶材质,且所述箱体(2)内的底端设有与所述限位柱(42)相匹配的缓冲槽。有益效果:可以将夹持机构上的医疗器械表面的血迹等难清洗的污渍刷掉,使医疗器械每个表面都能清洗到,相比传统的流水式清洗清洗的更干净,解决了传统的医疗器械清洗装置对医
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112916464 A
(43)申请公布日 2021.06.08
(21)申请号 202110070419.4
(22)申请日 2021.01.19
(71)申请人 马文强
地址 453
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