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相移反位膜掩模基版的制作方法.pdfVIP

相移反位膜掩模基版的制作方法.pdf

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    本发明提供一种相移反位膜掩模基版的制作方法，制作方法包括步骤：提供透明基板；在透明基板上沉积相移反位膜；在相移反位膜上沉积遮光膜；在遮光膜上沉积防反射膜；相移反位膜、遮光膜及防反射膜通过溅射沉积工艺沉积，溅射沉积工艺以氩气和氦气共同对靶材进行轰击，以实现相移反位膜、遮光膜及防反射膜的沉积。本发明可以精细地控制钼硅及铬沉积量及控制靶材溅射出来的颗粒数，从而大大提高相移反位膜、遮光膜及防反射膜的厚度均匀度，同时能调节相移反位膜的透过率及产生180度相移变化。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112981316 A (43)申请公布日 2021.06.18 (21)申请号 202110163809.6 (22)申请日 2021.02.05 (71)申请人 上海

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