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本发明公开了一种等离子体处理装置，包括：反应腔；基座，基座上设置有静电夹盘，用于固定待处理基片，一个源射频电源连接到基座或气体喷淋头及一个偏置射频电源连接到基座；气体喷淋头，用于引入气体至反应腔内，气体喷淋头与基座之间为等离子体处理区域；聚焦环，围绕静电夹盘并且在等离子体处理过程中暴露于等离子体；环形电极，设置于聚焦环下方；导体环，环设于基座下方，并通过一导体连接部与环形电极电性连接；阻抗调节组件，设置于基座的下方；阻抗调节组件包括多个电容器及多个继电器，每一继电器分别与单个电容器电性连接以控制
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113013009 A
(43)申请公布日
2021.06.22
(21)申请号 20191
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