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本发明公开了一种真空镀膜系统，包括固定部和与固定部形成开合的活动部，活动部内部设置用于承载靶材的背板，背板连接电极的阴极，所述固定部内部设置基片载体，所述基片载体与背板平行设置，所述背板和基片载体之间设置隔离磁场发生器，所述隔离磁场发生器用于产生隔离磁场，所述基片载体与固定部活动连接，本发明中的真空镀膜系统在靶材和基片之间设置隔离磁场，隔离磁场可对气体正离子进行阻拦，减少空气正离子在基片表面成膜时渗入膜中，可提升膜的质量，同时基片载体的位置可调，可进一步提升本真空镀膜系统的适用性。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113005415 A
(43)申请公布日 2021.06.22
(21)申请号 202110201847.6
(22)申请日 2021.02.23
(71)申请人 湖南匡楚科技有限公司
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