边缘环和基板处理装置.pdfVIP

边缘环和基板处理装置.pdf

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本发明涉及边缘环和基板处理装置。达成使用于等离子体处理的边缘环的更换频率的降低和在等离子体处理中的微粒的产生的抑制。边缘环具有第一上表面和第二上表面，第一上表面由碳化硅、碳化钨、氧化镁或者氧化钇形成，第二上表面形成于比第一上表面低的位置，与晶圆的周缘部的下表面相对，并且由硅形成。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113113281 A (43)申请公布日 2021.07.13 (21)申请号 202011590290.1 (22)申请日 2020.12.29 (30)优先权数据 2020-0029

知识产权出版社有限责任公司（原名专利文献出版社）成立于1980年8月，由国家知识产权局主管、主办。长期以来，知识产权出版社非常重视专利数据资源的建设工作，经过多年来的积累，已经收藏了数以亿计的中外专利数据资源。

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